MOCVD je základné zariadenie pre prípravu štruktúr pre tandemové solárne články. Štruktúry sa pripravujú depozíciou z plynnej fázy, ktorú tvorí nosný plyn a plyny a pary zdrojových látok. Množstvo zdrojových látok v reaktore predstavuje len jednu stotinu až desaťtisícinu z celkového množstva plynu v reaktore. Ako nosný plyn sa môžu použiť inertné plyny vysokej čistoty. V našom zariadení používame vodík. Vodík potrebnej vysokej čistoty sa pripravuje priamo v laboratóriu v čističke plynov. Ako surovina sa používa vodík dodávaný vo forme stlačeného plynu v tlakových oceľových fľašiach kupovaný od dodávateľov špeciálnych plynov. Od kvality vstupného vodíka závisí životnosť čističky plynov. Na druhej strane cena vstupného vodíka veľmi závisí od jeho čistoty a preto sa v praxi volí kompromis medzi nákladmi na kupovaný vodík a nákladom na výmenu čističky po uplynutí jej životnosti tak, aby celkové náklady boli čo najnižšie.
Vo vestníku neboli nájdené doplňujúce informácie.